AI与世界难题 · 化学与材料 · arXiv · 2026-10-19
从表面反应到抑制剂覆盖率:机器学习辅助的区域选择性原子层沉积计算研究
原标题: From Surface Reactions to Inhibitor Coverage: A Machine-Learning-Assisted Computational Study of Area-Selective Atomic Layer Deposition
预测抑制剂覆盖率对于优化区域选择性原子层沉积(AS-ALD)中的表面阻挡至关重要。作者将预训练的通用机器学习原子间势与离格点巨正则蒙特卡罗模拟相结合,研究了抑制剂在非晶SiO2上的吸附和前驱体阻挡。硅烷醇基团是主要的吸附位点,而能形成相同碎片的抑制剂,仍可能因完整分子的空间位阻限制而在覆盖率上有所不同。