AI dan Masalah-Masalah Sulit Dunia · Kimia & material · arXiv · 2026-10-19
Dari Reaksi Permukaan hingga Cakupan Inhibitor: Studi Komputasi Berbantuan Pembelajaran Mesin tentang Deposisi Lapisan Atom Selektif Area
Judul asli: From Surface Reactions to Inhibitor Coverage: A Machine-Learning-Assisted Computational Study of Area-Selective Atomic Layer Deposition
Memprediksi cakupan inhibitor sangat penting untuk mengoptimalkan pemblokiran permukaan pada area-selective atomic layer deposition (AS-ALD). Para penulis menggabungkan potensial antaratom pembelajaran mesin universal yang telah dilatih sebelumnya dengan simulasi Monte Carlo kanonik agung off-lattice untuk mempelajari adsorpsi inhibitor dan pemblokiran prekursor pada SiO2 amorf. Gugus silanol merupakan situs adsorpsi utama, dan inhibitor yang membentuk fragmen identik tetap dapat berbeda dalam cakupan karena kendala sterik dari molekul yang utuh.